化学還元法（液相法）によるニッケル（Ni）粒子の製造は、従来の気相法と比較して、粒度制御性とコスト効率の両面で優れた特長を有しています。液相法では、反応条件を精密に制御することで粒度分布の狭い均一なNi粒子を得ることができ、分級工程を必要としません。そのため、生成した粒子を無駄なく内部電極材料として活用できます。また、高温炉や特殊ガス設備を必要とする気相法とは異なり、液相法は比較的低温・常圧で反応が可能であるため、エネルギー消費を大幅に抑えることができます。これにより、設備投資および製造コストの低減を実現します。当社の化学還元技術は、高品質・高歩留まり・低コストを同時に実現する、次世代ニッケル粒子製造プロセスです。
当社独自の化学還元プロセスにより合成した平均粒径約50 nmのNi粒子です。粒子は高い球状性と極めて狭い粒径分布を示し、核生成段階における濃度制御により均一な構造を実現している点が特長です。最大の優位性は純度にあります。一般的なNiナノ粒子では、表面に炭素（C）や酸素（O）が残存しやすですが、当社プロセスではこれらの含有量を従来水準比で約1/10まで低減することに成功しました。この低不純物化により、焼結時のネック形成が促進され、低温でも高い導電性と信頼性を実現します。さらに、凝集が抑制されているため分散性にも優れ、ペースト化や薄膜形成において高い均一性を発揮する。既存の高品質Ni粉末と比較しても、粒径制御・分散性・低不純物化を同時に達成している点において、本技術は次世代MLCC材料として明確な優位性を有しています。
