化学還元法（液相法）によるニッケル（Ni）粒子の製造は、従来の気相法と比較して、粒度制御性とコスト効率の両面で優れた特長を有しています。液相法では、反応条件を精密に制御することで粒度分布の狭い均一なNi粒子を得ることができ、分級工程を必要としません。そのため、生成した粒子を無駄なく内部電極材料として活用できます。また、高温炉や特殊ガス設備を必要とする気相法とは異なり、液相法は比較的低温・常圧で反応が可能であるため、エネルギー消費を大幅に抑えることができます。これにより、設備投資および製造コストの低減を実現します。当社の化学還元技術は、高品質・高歩留まり・低コストを同時に実現する、次世代ニッケル粒子製造プロセスです。
ニッケル塩を原料とする湿式化学還元プロセスについて、核生成・還元反応・粒子成長を精密に制御する独自技術を構築し、従来開発してきた100～300nmに加えて、新たに60nmおよび80nmの微細ニッケル粉末をラインアップしました。特に60nmのニッケル粉末は、今後さらに進展すると予想されるMLCC内部電極の超薄層化を見据えた次世代材料として開発したものです。また、MLCC用途に限らず、導電性ペースト、電子部品用電極材料、触媒材料など、ナノサイズのニッケル粒子の特性を活用した幅広い用途への展開を進めています。